Influence of direct current plasma magnetron sputtering parameters on the material characteristics of polycrystalline copper films: Fid-Bau Portal

Influence of direct current plasma magnetron sputtering parameters on the material characteristics of polycrystalline copper films

Chan, K. Y. / Luo, P. Q. / Zhou, Z. B. / Tou, T. Y. / Teo, B. S.

Zugriff

Zugriff über TIB

Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen

Bestellung bei Subito €

Seitennavigation

Dokumentinformationen

Ähnliche Titel

Exportieren, teilen und zitieren

Influence of direct current plasma magnetron sputtering parameters on the material characteristics of polycrystalline copper films

Chan, K. Y. / Luo, P. Q. / Zhou, Z. B. / Tou, T. Y. / Teo, B. S.

Influence of direct current plasma magnetron sputtering parameters on the material characteristics of polycrystalline copper films

Chan, K. Y. / Luo, P. Q. / Zhou, Z. B. / Tou, T. Y. / Teo, B. S.

Zugriff

Zugriff über TIB

Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen

Bestellung bei Subito €

Seitennavigation

Dokumentinformationen

Ähnliche Titel

Exportieren, teilen und zitieren

Dokumentinformationen

Titel:

Influence of direct current plasma magnetron sputtering parameters on the material characteristics of polycrystalline copper films

Beteiligte:

Chan, K. Y. (Autor:in) / Luo, P. Q. (Autor:in) / Zhou, Z. B. (Autor:in) / Tou, T. Y. (Autor:in) / Teo, B. S. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 255 ; 5186-5190

Erscheinungsdatum:

01.01.2009

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

Cai, X. M. / Hao, Y. Q. / Zhang, D. P. et al. | British Library Online Contents | 2009

Properties of titanium nitride films prepared by direct current magnetron sputtering

Jeyachandran, Y. L. / Narayandass, S. K. / Mangalaraj, D. et al. | British Library Online Contents | 2007

Effects of deposition parameters on tantalum films deposited by direct current magnetron sputtering in Ar-O2 mixture

Zhou, Y. M. / Xie, Z. / Xiao, H. N. et al. | British Library Online Contents | 2011

Polycrystalline films of tungsten-doped indium oxide prepared by d.c. magnetron sputtering

Abe, Y. / Ishiyama, N. | British Library Online Contents | 2007

Influence of Magnetron Sputtering Parameters on Deposition Rate of TiO~2 Films

Sun, F.-l. / Zhang, L. | British Library Online Contents | 2014

Nach oben