Influence of Magnetron Sputtering Parameters on Deposition Rate of TiO~2 Films: Fid-Bau Portal

Influence of Magnetron Sputtering Parameters on Deposition Rate of TiO~2 Films

Sun, F.-l. / Zhang, L.

Zugriff

Zugriff über TIB

Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen

Bestellung bei Subito €

Seitennavigation

Dokumentinformationen

Ähnliche Titel

Exportieren, teilen und zitieren

Influence of Magnetron Sputtering Parameters on Deposition Rate of TiO~2 Films

Sun, F.-l. / Zhang, L.

Influence of Magnetron Sputtering Parameters on Deposition Rate of TiO~2 Films

Sun, F.-l. / Zhang, L.

Zugriff

Zugriff über TIB

Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen

Bestellung bei Subito €

Seitennavigation

Dokumentinformationen

Ähnliche Titel

Exportieren, teilen und zitieren

Dokumentinformationen

Titel:

Influence of Magnetron Sputtering Parameters on Deposition Rate of TiO~2 Films

Beteiligte:

Sun, F.-l. (Autor:in) / Zhang, L. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS PROTECTION -WUHAN- ; 47 ; 42-44

Erscheinungsdatum:

01.01.2014

Format / Umfang:

3 pages

ISSN:

1001-1560

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Unbekannt

Klassifikation:

DDC: 620.1

Liu, J.-y. / Ma, S.-n. / Sun, X.-f. et al. | British Library Online Contents | 2011

Study on Deposition Rate of AlN Thin Films Using Reactive Magnetron Sputtering

Xiaohong, X. / Haishun, W. / Fuqiang, Z. | British Library Online Contents | 2002

Direct current magnetron sputtering deposition of InN thin films

Cai, X. M. / Hao, Y. Q. / Zhang, D. P. et al. | British Library Online Contents | 2009

Recent Results on Reactive Magnetron Sputtering for High-Rate Deposition of Ceramic Compound Films

Billard, A. / Frantz, C. | British Library Online Contents | 1998

Deposition of MgO films by pulsed mid-frequency magnetron sputtering

Cheng, Y. H. / Kupfer, H. / Richter, F. et al. | British Library Online Contents | 2002

Nach oben