Preparation of ZnO:Al thin film on transparent TPT substrate at room temperature by RF magnetron sputtering technique: Fid-Bau Portal

Preparation of ZnO:Al thin film on transparent TPT substrate at room temperature by RF magnetron sputtering technique

Wang, X. j. / Lei, Q. s. / Xu, W. / Zhou, W. l. / Yu, J.

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Titel:

Preparation of ZnO:Al thin film on transparent TPT substrate at room temperature by RF magnetron sputtering technique

Beteiligte:

Wang, X. j. (Autor:in) / Lei, Q. s. (Autor:in) / Xu, W. (Autor:in) / Zhou, W. l. (Autor:in) / Yu, J. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS LETTERS ; 63 ; 1371-1373

Erscheinungsdatum:

01.01.2009

Format / Umfang:

3 pages

ISSN:

0167-577X

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.1105 / 530

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