Highly Conductive/Transparent ZnO:Al Thin Films Deposited at Room Temperature by rf Magnetron Sputtering: Fid-Bau Portal

Highly Conductive/Transparent ZnO:Al Thin Films Deposited at Room Temperature by rf Magnetron Sputtering

Fortunato, E. / Nunes, P. / Marques, A. / Costa, D. / Aguas, H. / Ferreira, I. / Costa, M. E. V. / Martins, R.

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Titel:

Highly Conductive/Transparent ZnO:Al Thin Films Deposited at Room Temperature by rf Magnetron Sputtering

Beteiligte:

Fortunato, E. (Autor:in) / Nunes, P. (Autor:in) / Marques, A. (Autor:in) / Costa, D. (Autor:in) / Aguas, H. (Autor:in) / Ferreira, I. (Autor:in) / Costa, M. E. V. (Autor:in) / Martins, R. (Autor:in) / Vieira, T.

Erschienen in:

Proceedings of the 1^s^t International Materials Symposium, Coimbra, Portugal, April 9-11, 2001 ; 571-574

KEY ENGINEERING MATERIALS

Erscheinungsdatum:

01.01.2002

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

1013-9826

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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