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    Titel:

    Use of a PECVD-PVD process for the deposition of copper containing organosilicon thin films on steel

    Beteiligte:

    Daniel, A. (Autor:in) / Le Pen, C. (Autor:in) / Archambeau, C. (Autor:in) / Reniers, F. (Autor:in)

    Erschienen in:

    APPLIED SURFACE SCIENCE ; 256 ; S82-S85

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2009

    Format / Umfang:

    S82-S85

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.35

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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