Stress analysis of Si~1~-~xGe~x embedded source/drain junctions: Fid-Bau Portal

Stress analysis of Si~1~-~xGe~x embedded source/drain junctions

Gonzalez, M.B. / Simoen, E. / Naka, N. / Okuno, Y. / Eneman, G. / Hikavyy, A. / Verheyen, P. / Loo, R. / Claeys, C. / Machkaoutsan, V.

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Titel:

Stress analysis of Si~1~-~xGe~x embedded source/drain junctions

Beteiligte:

Gonzalez, M.B. (Autor:in) / Simoen, E. (Autor:in) / Naka, N. (Autor:in) / Okuno, Y. (Autor:in) / Eneman, G. (Autor:in) / Hikavyy, A. (Autor:in) / Verheyen, P. (Autor:in) / Loo, R. (Autor:in) / Claeys, C. (Autor:in) / Machkaoutsan, V. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING ; 11 ; 285-290

Erscheinungsdatum:

01.01.2008

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

1369-8001

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.38152

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