Microstructure and mechanical properties of AlN films obtained by plasma enhanced chemical vapor deposition: Fid-Bau Portal

Microstructure and mechanical properties of AlN films obtained by plasma enhanced chemical vapor deposition

Sánchez, G. / Abdallah, B. / Tristant, P. / Dublanche-Tixier, C. / Djouadi, M. A. / Besland, M. P. / Jouan, P. Y. / Bologna Alles, A.

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Sánchez, G. / Abdallah, B. / Tristant, P. / Dublanche-Tixier, C. / Djouadi, M. A. / Besland, M. P. / Jouan, P. Y. / Bologna Alles, A.

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Titel:

Microstructure and mechanical properties of AlN films obtained by plasma enhanced chemical vapor deposition

Beteiligte:

Sánchez, G. (Autor:in) / Abdallah, B. (Autor:in) / Tristant, P. (Autor:in) / Dublanche-Tixier, C. (Autor:in) / Djouadi, M. A. (Autor:in) / Besland, M. P. (Autor:in) / Jouan, P. Y. (Autor:in) / Bologna Alles, A. (Autor:in)

Erschienen in:

JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE ; 44 ; 6125-6134

Erscheinungsdatum:

01.01.2009

Format / Umfang:

10 pages

ISSN:

0022-2461

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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