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A fundamental model proposed for material removal in chemicalmechanical polishing

Xin, J. / Cai, W. / Tichy, J. A.

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Titel:

A fundamental model proposed for material removal in chemicalmechanical polishing

Beteiligte:

Xin, J. (Autor:in) / Cai, W. (Autor:in) / Tichy, J. A. (Autor:in)

Erschienen in:

WEAR -LAUSANNE- ; 268 ; 837-844

Erscheinungsdatum:

01.01.2010

Format / Umfang:

8 pages

ISSN:

0043-1648

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11292

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