Self-Similarity of Electrochemically-Deposited Copper Films on Porous Silicon: Fid-Bau Portal

Self-Similarity of Electrochemically-Deposited Copper Films on Porous Silicon

Chen, L.L. / Zhai, B.G. / Huang, Y.M.

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Titel:

Self-Similarity of Electrochemically-Deposited Copper Films on Porous Silicon

Beteiligte:

Chen, L.L. (Autor:in) / Zhai, B.G. (Autor:in) / Huang, Y.M. (Autor:in) / Huang, Y.M.

Erschienen in:

Advances in Liquid Crystals ; 515-518

KEY ENGINEERING MATERIALS ; 428/429

Erscheinungsdatum:

01.01.2010

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

1013-9826

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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