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Electrochemically Deposited Copper for ULSI Technology

Shacham-Diamand, Y. / Electrochemical Society; Electrodeposition Division

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Titel:

Electrochemically Deposited Copper for ULSI Technology

Beteiligte:

Shacham-Diamand, Y. (Autor:in) / Paunovic, M. / Electrochemical Society; Electrodeposition Division

Kongress:

2nd Symposium; Fall meeting, Electrochemically deposited thin films ; 1994 ; Miami Beach; FL

Erschienen in:

Electrochemically deposited thin films ; 293-303

PROCEEDINGS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY PV ; 94-31

Erscheinungsdatum:

01.01.1995

Format / Umfang:

11 pages

ISBN:

1566770904

Medientyp:

Aufsatz (Konferenz)

Format:

Sprache:

Englisch

Schlagwörter:

electrochemically deposited thin films , electrodeposition , thin films

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