Reactive Pulsed Laser Deposition of titanium nitride thin film: Optimization of process parameters using Secondary Ion Mass Spectrometry: Fid-Bau Portal

Reactive Pulsed Laser Deposition of titanium nitride thin film: Optimization of process parameters using Secondary Ion Mass Spectrometry

Krishnan, R. / Mathews, T. / Balamurugan, A. K. / Dash, S. / Tyagi, A. K. / Raj, B. / Jayaram, V.

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Titel:

Reactive Pulsed Laser Deposition of titanium nitride thin film: Optimization of process parameters using Secondary Ion Mass Spectrometry

Beteiligte:

Krishnan, R. (Autor:in) / Mathews, T. (Autor:in) / Balamurugan, A. K. (Autor:in) / Dash, S. (Autor:in) / Tyagi, A. K. (Autor:in) / Raj, B. (Autor:in) / Jayaram, V. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 256 ; 3077-3080

Erscheinungsdatum:

01.01.2010

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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