X-ray photoelectron and X-ray absorption spectroscopic study on b-FeSi2 thin films fabricated by ion beam sputter deposition: Fid-Bau Portal

X-ray photoelectron and X-ray absorption spectroscopic study on b-FeSi2 thin films fabricated by ion beam sputter deposition

Esaka, F. / Yamamoto, H. / Matsubayashi, N. / Yamada, Y. / Sasase, M. / Yamaguchi, K. / Shamoto, S. / Magara, M. / Kimura, T.

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Titel:

X-ray photoelectron and X-ray absorption spectroscopic study on b-FeSi2 thin films fabricated by ion beam sputter deposition

Beteiligte:

Esaka, F. (Autor:in) / Yamamoto, H. (Autor:in) / Matsubayashi, N. (Autor:in) / Yamada, Y. (Autor:in) / Sasase, M. (Autor:in) / Yamaguchi, K. (Autor:in) / Shamoto, S. (Autor:in) / Magara, M. (Autor:in) / Kimura, T. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 256 ; 3155-3159

Erscheinungsdatum:

01.01.2010

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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