N+ plasma-assisted wafer bonding between silicon and chemical vapor deposition oxide at low temperature: Fid-Bau Portal

N+ plasma-assisted wafer bonding between silicon and chemical vapor deposition oxide at low temperature

Ma, X. / Liu, W. / Chen, C. / Xu, J. / Song, Z. / Lin, C.

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Titel:

N+ plasma-assisted wafer bonding between silicon and chemical vapor deposition oxide at low temperature

Beteiligte:

Ma, X. (Autor:in) / Liu, W. (Autor:in) / Chen, C. (Autor:in) / Xu, J. (Autor:in) / Song, Z. (Autor:in) / Lin, C. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING ; 12 ; 161-167

Erscheinungsdatum:

01.01.2009

Format / Umfang:

7 pages

ISSN:

1369-8001

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.38152

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