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    Dokumentinformationen
    Titel:

    Low-temperature deposition of +/--Al2O3 films by laser chemical vapor deposition using a diode laser

    Beteiligte:

    You, Y. (Autor:in) / Ito, A. (Autor:in) / Tu, R. (Autor:in) / Goto, T. (Autor:in)

    Erschienen in:

    APPLIED SURFACE SCIENCE ; 256 ; 3906-3911

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2010

    Format / Umfang:

    6 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.35

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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