Oxygen influence on sputtered high rate ZnO:Al films from dual rotatable ceramic targets: Fid-Bau Portal

Oxygen influence on sputtered high rate ZnO:Al films from dual rotatable ceramic targets

Zhu, H. / Hupkes, J. / Bunte, E. / Huang, S. M.

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Titel:

Oxygen influence on sputtered high rate ZnO:Al films from dual rotatable ceramic targets

Beteiligte:

Zhu, H. (Autor:in) / Hupkes, J. (Autor:in) / Bunte, E. (Autor:in) / Huang, S. M. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 256 ; 4601-4605

Erscheinungsdatum:

01.01.2010

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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