Surface treatments toward obtaining clean GaN(0001) from commercial hydride vapor phase epitaxy and metal-organic chemical vapor deposition substrates in ultrahigh vacuum: Fid-Bau Portal

Surface treatments toward obtaining clean GaN(0001) from commercial hydride vapor phase epitaxy and metal-organic chemical vapor deposition substrates in ultrahigh vacuum

Hattori, A. N. / Endo, K. / Hattori, K. / Daimon, H.

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Titel:

Surface treatments toward obtaining clean GaN(0001) from commercial hydride vapor phase epitaxy and metal-organic chemical vapor deposition substrates in ultrahigh vacuum

Beteiligte:

Hattori, A. N. (Autor:in) / Endo, K. (Autor:in) / Hattori, K. (Autor:in) / Daimon, H. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 256 ; 4745-4756

Erscheinungsdatum:

01.01.2010

Format / Umfang:

12 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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