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Thin strain-relaxed SiGe grown by ultrahigh vacuum chemical vapor deposition

Xu, X. / Kweh, H. / Zhang, Z. / Liu, Z. / Zhou, W. / Zhang, W. / Qian, P.

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Titel:

Thin strain-relaxed SiGe grown by ultrahigh vacuum chemical vapor deposition

Beteiligte:

Xu, X. (Autor:in) / Kweh, H. (Autor:in) / Zhang, Z. (Autor:in) / Liu, Z. (Autor:in) / Zhou, W. (Autor:in) / Zhang, W. (Autor:in) / Qian, P. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 252 ; 7594-7598

Erscheinungsdatum:

01.01.2006

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Print

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

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