Thermal stability of SiGe films on an ultra thin Ge buffer layer on Si grown at low temperature: Fid-Bau Portal

Thermal stability of SiGe films on an ultra thin Ge buffer layer on Si grown at low temperature

Chen, C. / Zhou, Z. / Chen, Y. / Li, C. / Lai, H. / Chen, S.

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Titel:

Thermal stability of SiGe films on an ultra thin Ge buffer layer on Si grown at low temperature

Beteiligte:

Chen, C. (Autor:in) / Zhou, Z. (Autor:in) / Chen, Y. (Autor:in) / Li, C. (Autor:in) / Lai, H. (Autor:in) / Chen, S. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 256 ; 6936-6940

Erscheinungsdatum:

01.01.2010

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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