Study of Deposition of Aluminum Nitride Thin Films by Hollow Cathode Electron Beam Vapor Deposition Method: Fid-Bau Portal

Study of Deposition of Aluminum Nitride Thin Films by Hollow Cathode Electron Beam Vapor Deposition Method

Mu, Z.X. / Mu, X.D. / Wang, C. / Dong, C.

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Titel:

Study of Deposition of Aluminum Nitride Thin Films by Hollow Cathode Electron Beam Vapor Deposition Method

Beteiligte:

Mu, Z.X. (Autor:in) / Mu, X.D. (Autor:in) / Wang, C. (Autor:in) / Dong, C. (Autor:in) / Nie, J.-F. / Morton, A.

Erschienen in:

PRICM7 PART 2 ; 1708-1711

MATERIALS SCIENCE FORUM ; 654/656

Erscheinungsdatum:

01.01.2010

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0255-5476

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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