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    Titel:

    Nanocrystalline silicon fabrication by conventional plasma enhanced chemical vapor deposition for bottom gate thin film transistor

    Beteiligte:

    Kim, S. W. (Autor:in) / Choi, D. L. (Autor:in)

    Erschienen in:

    MATERIALS LETTERS ; 64 ; 1975-1977

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2010

    Format / Umfang:

    3 pages

    ISSN:

    0167-577X

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.1105 / 530

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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