Dependence of Microstructural Evolution of Nanoindented Cu/Si Thin Films on Annealing Temperature: Fid-Bau Portal

Dependence of Microstructural Evolution of Nanoindented Cu/Si Thin Films on Annealing Temperature

Lee, W.-S. / Chen, T.-H. / Lin, C.-F. / Chuang, Y.-L.

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Titel:

Dependence of Microstructural Evolution of Nanoindented Cu/Si Thin Films on Annealing Temperature

Beteiligte:

Lee, W.-S. (Autor:in) / Chen, T.-H. (Autor:in) / Lin, C.-F. (Autor:in) / Chuang, Y.-L. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS TRANSACTIONS ; 51 ; 2013-2018

Erscheinungsdatum:

01.01.2010

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

1345-9678

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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