Microstructural Evolution of Nanoindented Ag/Si Thin-Film under Different Annealing Temperatures: Fid-Bau Portal

Microstructural Evolution of Nanoindented Ag/Si Thin-Film under Different Annealing Temperatures

Lee, W.-S. / Chen, T.-H. / Lin, C.-F. / Wu, C.-L.

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Titel:

Microstructural Evolution of Nanoindented Ag/Si Thin-Film under Different Annealing Temperatures

Beteiligte:

Lee, W.-S. (Autor:in) / Chen, T.-H. (Autor:in) / Lin, C.-F. (Autor:in) / Wu, C.-L. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS TRANSACTIONS ; 52 ; 1868-1875

Erscheinungsdatum:

01.01.2011

Format / Umfang:

8 pages

ISSN:

1345-9678

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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