Photoelectrochemical etching to fabricate single-crystal SiC MEMS for harsh environments: Fid-Bau Portal

Photoelectrochemical etching to fabricate single-crystal SiC MEMS for harsh environments

Zhao, F. / Islam, M. M. / Huang, C. F.

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Titel:

Photoelectrochemical etching to fabricate single-crystal SiC MEMS for harsh environments

Beteiligte:

Zhao, F. (Autor:in) / Islam, M. M. (Autor:in) / Huang, C. F. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS LETTERS ; 65 ; 409-412

Erscheinungsdatum:

01.01.2011

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0167-577X

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

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