Theoretical ELNES spectra of Si-K, Si-L, N-K, and O-K edges of an intergranular glassy film model in β-Si3N4: Fid-Bau Portal

Theoretical ELNES spectra of Si-K, Si-L, N-K, and O-K edges of an intergranular glassy film model in β-Si3N4

Rulis, P. / Ching, W. Y.

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Titel:

Theoretical ELNES spectra of Si-K, Si-L, N-K, and O-K edges of an intergranular glassy film model in β-Si3N4

Beteiligte:

Rulis, P. (Autor:in) / Ching, W. Y. (Autor:in)

Erschienen in:

JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE ; 46 ; 4191-4198

Erscheinungsdatum:

01.01.2011

Format / Umfang:

8 pages

ISSN:

0022-2461

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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