Thermal stability of atomic-layer-deposited ultra-thin niobium oxide film on Si (100): Fid-Bau Portal

Thermal stability of atomic-layer-deposited ultra-thin niobium oxide film on Si (100)

Huang, Y. / Xu, Y. / Ding, S. J. / Lu, H. L. / Sun, Q. Q. / Zhang, D. W. / Chen, Z.

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Titel:

Thermal stability of atomic-layer-deposited ultra-thin niobium oxide film on Si (100)

Beteiligte:

Huang, Y. (Autor:in) / Xu, Y. (Autor:in) / Ding, S. J. (Autor:in) / Lu, H. L. (Autor:in) / Sun, Q. Q. (Autor:in) / Zhang, D. W. (Autor:in) / Chen, Z. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 257 ; 7305-7309

Erscheinungsdatum:

01.01.2011

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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