Effect of post-deposition annealing temperature on CeO2 thin film deposited on silicon substrate via RF magnetron sputtering technique: Fid-Bau Portal

Effect of post-deposition annealing temperature on CeO2 thin film deposited on silicon substrate via RF magnetron sputtering technique

Chuah, S.K. / Cheong, K.Y. / Lockman, Z. / Hassan, Z.

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Titel:

Effect of post-deposition annealing temperature on CeO2 thin film deposited on silicon substrate via RF magnetron sputtering technique

Beteiligte:

Chuah, S.K. (Autor:in) / Cheong, K.Y. (Autor:in) / Lockman, Z. (Autor:in) / Hassan, Z. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING ; 14 ; 101-107

Erscheinungsdatum:

01.01.2011

Format / Umfang:

7 pages

ISSN:

1369-8001

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.38152

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