Moisture uptake and dielectric property of methylsilsesquioxane/high-temperature porogen hybrids and porous low-k films: Fid-Bau Portal

Moisture uptake and dielectric property of methylsilsesquioxane/high-temperature porogen hybrids and porous low-k films

Che, M.-L. / Teng, J.-Y. / Lai, P.-C. / Leu, J.

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Titel:

Moisture uptake and dielectric property of methylsilsesquioxane/high-temperature porogen hybrids and porous low-k films

Beteiligte:

Che, M.-L. (Autor:in) / Teng, J.-Y. (Autor:in) / Lai, P.-C. (Autor:in) / Leu, J. (Autor:in)

Erschienen in:

JOURNAL OF MATERIALS RESEARCH -PITTSBURGH THEN WARRENDALE- ; 26 ; 2987-2995

Erscheinungsdatum:

01.01.2011

Format / Umfang:

9 pages

ISSN:

0884-2914

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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