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    Dokumentinformationen
    Titel:

    Characterization of Zr-Si-N films deposited by cathodic vacuum arc with different N2/SiH4 flow rates

    Beteiligte:

    Zhang, G. P. (Autor:in) / Niu, E. W. (Autor:in) / Wang, X. Q. (Autor:in) / Lv, G. H. (Autor:in) / Zhou, L. (Autor:in) / Pang, H. (Autor:in) / Huang, J. (Autor:in) / Chen, W. (Autor:in) / Yang, S. Z. (Autor:in)

    Erschienen in:

    APPLIED SURFACE SCIENCE ; 258 ; 3674-3678

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2012

    Format / Umfang:

    5 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.35

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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