Formation of 12-nm Nanodot Pattern by Block Copolymer Self-Assembly Technique: Fid-Bau Portal

Formation of 12-nm Nanodot Pattern by Block Copolymer Self-Assembly Technique

Huda, M. / Tamura, T. / Yin, Y. / Hosaka, S.

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Titel:

Formation of 12-nm Nanodot Pattern by Block Copolymer Self-Assembly Technique

Beteiligte:

Huda, M. (Autor:in) / Tamura, T. (Autor:in) / Yin, Y. (Autor:in) / Hosaka, S. (Autor:in) / Hanaizumi, O. / Unno, M. / Miura, K.

Erschienen in:

Silicon Science and Advanced Micro-Device Engineering II ; 122-126

KEY ENGINEERING MATERIALS ; 497

Erscheinungsdatum:

01.01.2012

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

1013-9826

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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