Improved Observation Contrast of Block-Copolymer Nanodot Pattern Using Carbon Hard Mask (CHM): Fid-Bau Portal

Improved Observation Contrast of Block-Copolymer Nanodot Pattern Using Carbon Hard Mask (CHM)

Akahane, T. / Komori, T. / Liu, J. / Huda, M. / Mohamad, Z.B. / Yin, Y. / Hosaka, S.

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Titel:

Improved Observation Contrast of Block-Copolymer Nanodot Pattern Using Carbon Hard Mask (CHM)

Beteiligte:

Akahane, T. (Autor:in) / Komori, T. (Autor:in) / Liu, J. (Autor:in) / Huda, M. (Autor:in) / Mohamad, Z.B. (Autor:in) / Yin, Y. (Autor:in) / Hosaka, S. (Autor:in) / Hosaka, S.

Erschienen in:

Advanced Micro-Device Engineering III ; 126-130

KEY ENGINEERING MATERIALS ; 534

Erscheinungsdatum:

01.01.2013

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

1013-9826

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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