In situ X-ray photoelectron spectroscopy characterization of Al2O3/InSb interface evolution from atomic layer deposition: Fid-Bau Portal

In situ X-ray photoelectron spectroscopy characterization of Al2O3/InSb interface evolution from atomic layer deposition

Zhernokletov, D. M. / Dong, H. / Brennan, B. / Kim, J. / Wallace, R. M.

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Titel:

In situ X-ray photoelectron spectroscopy characterization of Al2O3/InSb interface evolution from atomic layer deposition

Beteiligte:

Zhernokletov, D. M. (Autor:in) / Dong, H. (Autor:in) / Brennan, B. (Autor:in) / Kim, J. (Autor:in) / Wallace, R. M. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 258 ; 5522-5525

Erscheinungsdatum:

01.01.2012

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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