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    Titel:

    Atomic scale microstructures of high-k HfSiO thin films fabricated by magnetron sputtering

    Beteiligte:

    Talbot, E. (Autor:in) / Roussel, M. (Autor:in) / Khomenkova, L. (Autor:in) / Gourbilleau, F. (Autor:in) / Pareige, P. (Autor:in)

    Erschienen in:

    MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B ADVANCED FUNCTIONAL SOLID STATE MATERIALS ; 177 ; 717-720

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2012

    Format / Umfang:

    4 pages

    ISSN:

    0921-5107

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.11

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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