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SIMS analysis of HfSiO(N) thin films

Miwa, S. / Kusanagi, S. / Kobayashi, H.

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Titel:

SIMS analysis of HfSiO(N) thin films

Beteiligte:

Miwa, S. (Autor:in) / Kusanagi, S. (Autor:in) / Kobayashi, H. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 252 ; 7176-7178

Erscheinungsdatum:

01.01.2006

Format / Umfang:

3 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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