Eine Plattform für die Wissenschaft: Bauingenieurwesen, Architektur und Urbanistik
Eine Plattform für die Wissenschaft: Bauingenieurwesen, Architektur und Urbanistik
Material selection methodology for gate dielectric material in metal-oxide-semiconductor devices
Material selection methodology for gate dielectric material in metal-oxide-semiconductor devices
Material selection methodology for gate dielectric material in metal-oxide-semiconductor devices
Aditya, B.N. (Autor:in) / Gupta, N. (Autor:in) / Blundell, M. / Jerrams, S. / Edwards, K.L.
01.01.2012
5 pages
Aufsatz (Zeitschrift)
Englisch
DDC:
620.0042
© Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.
GaN metal-oxide-semiconductor devices with ZrO2 as dielectric layers
| British Library Online Contents | 2019
| British Library Online Contents | 2006
| British Library Online Contents | 2002