Activation of ion-implanted polycrystalline silicon thin films prepared on glass substrates: Fid-Bau Portal

Activation of ion-implanted polycrystalline silicon thin films prepared on glass substrates

So, B.-S. / Bae, S.-M. / You, Y.-H. / Kim, Y.-H. / Hwang, J.-H.

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Titel:

Activation of ion-implanted polycrystalline silicon thin films prepared on glass substrates

Beteiligte:

So, B.-S. (Autor:in) / Bae, S.-M. (Autor:in) / You, Y.-H. (Autor:in) / Kim, Y.-H. (Autor:in) / Hwang, J.-H. (Autor:in) / Boo, J.-H. / Ahn, H.

Erschienen in:

Proceedings of the IFFM2011 (2011 International Forum on Functional Materials) and AFM-2 (2nd Special Symposium on Advances in Functional Materials) Jeju island, Korea 28-31 July 2011 ; 3048-3051

MATERIALS RESEARCH BULLETIN ; 47

Erscheinungsdatum:

01.01.2012

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0025-5408

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11 / 620

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