On the diffusion and activation of n-type dopants in Ge: Fid-Bau Portal

On the diffusion and activation of n-type dopants in Ge

Vanhellemont, J. / Simoen, E.

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Titel:

On the diffusion and activation of n-type dopants in Ge

Beteiligte:

Vanhellemont, J. (Autor:in) / Simoen, E. (Autor:in) / Bracht, H. / Impellizzeri, G.

Erschienen in:

New Aspects of Si- and Ge-based Materials and Devices ; 642-655

MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING ; 15

Erscheinungsdatum:

01.01.2012

Format / Umfang:

14 pages

ISSN:

1369-8001

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.38152

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