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    Titel:

    On the diffusion and activation of n-type dopants in Ge [Mater. Sci. Semicond. Process. 15 (2012) 642-655]

    Beteiligte:

    Vanhellemont, J. (Autor:in) / Simoen, E. (Autor:in)

    Erschienen in:

    MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING ; 17 ; 184-185

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2014

    Format / Umfang:

    2 pages

    ISSN:

    1369-8001

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.38152

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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