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    Dokumentinformationen
    Titel:

    Room temperature plasma oxidation in DCSBD: A new method for preparation of silicon dioxide films at atmospheric pressure

    Beteiligte:

    Skacelova, D. (Autor:in) / Danilov, V. (Autor:in) / Schafer, J. (Autor:in) / Quade, A. (Autor:in) / Stahel, P. (Autor:in) / Cernak, M. (Autor:in) / Meichsner, J. (Autor:in)

    Erschienen in:

    MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B ADVANCED FUNCTIONAL SOLID STATE MATERIALS ; 178 ; 651-655

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2013

    Format / Umfang:

    5 pages

    ISSN:

    0921-5107

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.11

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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