Crystallographic study on self-annealing of electroplated copper at room temperature: Fid-Bau Portal

Crystallographic study on self-annealing of electroplated copper at room temperature

Shinada, E. / Nagoshi, T. / Chang, T. F. M. / Sone, M.

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Titel:

Crystallographic study on self-annealing of electroplated copper at room temperature

Beteiligte:

Shinada, E. (Autor:in) / Nagoshi, T. (Autor:in) / Chang, T. F. M. (Autor:in) / Sone, M. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING ; 16 ; 633-639

Erscheinungsdatum:

01.01.2013

Format / Umfang:

7 pages

ISSN:

1369-8001

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.38152

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