Photo-Electrochemical Properties of Titanium Dioxide Thin Films Prepared by Reactive RF Sputtering Method: Fid-Bau Portal

Photo-Electrochemical Properties of Titanium Dioxide Thin Films Prepared by Reactive RF Sputtering Method

Arita, M. / Tabata, Y. / Sakamoto, H. / Guo, Q.X.

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Titel:

Photo-Electrochemical Properties of Titanium Dioxide Thin Films Prepared by Reactive RF Sputtering Method

Beteiligte:

Arita, M. (Autor:in) / Tabata, Y. (Autor:in) / Sakamoto, H. (Autor:in) / Guo, Q.X. (Autor:in) / Zhu, S. / Ni, B. / Ju, D.

Erschienen in:

Advanced Materials Science and Technology ; 248-251

MATERIALS SCIENCE FORUM ; 750

Erscheinungsdatum:

01.01.2013

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0255-5476

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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