Fachinformationsdienst BAUdigital

Eine Plattform für die Wissenschaft: Bauingenieurwesen, Architektur und Urbanistik

    Influence of substrate temperature on titanium oxynitride thin films prepared by reactive sputtering

    Neue Suche nach: Chappe, J. M.
    Neue Suche nach: Martin, N.
    Neue Suche nach: Pierson, J. F.
    Neue Suche nach: Terwagne, G.
    Neue Suche nach: Lintymer, J.
    Neue Suche nach: Gavoille, J.
    Neue Suche nach: Takadoum, J.

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Seitennavigation

    Dokumentinformationen
    Ähnliche Titel

    Exportieren, teilen und zitieren

    Influence of substrate temperature on titanium oxynitride thin films prepared by reactive sputtering

    Neue Suche nach: Chappe, J. M.
    Neue Suche nach: Martin, N.
    Neue Suche nach: Pierson, J. F.
    Neue Suche nach: Terwagne, G.
    Neue Suche nach: Lintymer, J.
    Neue Suche nach: Gavoille, J.
    Neue Suche nach: Takadoum, J.

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Influence of substrate temperature on titanium oxynitride thin films prepared by reactive sputtering

    Neue Suche nach: Chappe, J. M.
    Neue Suche nach: Martin, N.
    Neue Suche nach: Pierson, J. F.
    Neue Suche nach: Terwagne, G.
    Neue Suche nach: Lintymer, J.
    Neue Suche nach: Gavoille, J.
    Neue Suche nach: Takadoum, J.

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Seitennavigation

    Dokumentinformationen
    Ähnliche Titel

    Exportieren, teilen und zitieren

    Dokumentinformationen
    Titel:

    Influence of substrate temperature on titanium oxynitride thin films prepared by reactive sputtering

    Beteiligte:

    Chappe, J. M. (Autor:in) / Martin, N. (Autor:in) / Pierson, J. F. (Autor:in) / Terwagne, G. (Autor:in) / Lintymer, J. (Autor:in) / Gavoille, J. (Autor:in) / Takadoum, J. (Autor:in)

    Erschienen in:

    APPLIED SURFACE SCIENCE ; 225 ; 29-38

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2004

    Format / Umfang:

    10 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.35

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

    Ähnliche Titel

    Titanium oxynitride thin films sputter deposited by the reactive gas pulsing process

    Chappe, J. M. / Martin, N. / Lintymer, J. et al. | British Library Online Contents | 2007

    Gas barrier properties of titanium oxynitride films deposited on polyethylene terephthalate substrates by reactive magnetron sputtering

    Lin, M. C. / Chang, L. S. / Lin, H. C. | British Library Online Contents | 2008

    Photo-Electrochemical Properties of Titanium Dioxide Thin Films Prepared by Reactive RF Sputtering Method

    Arita, M. / Tabata, Y. / Sakamoto, H. et al. | British Library Online Contents | 2013

    Synthesis and characterization of multi-element oxynitride semiconductor film prepared by reactive sputtering deposition

    Yu, R. S. / Huang, R. H. / Lee, C. M. et al. | British Library Online Contents | 2012

    Properties of zirconia thin films prepared by reactive magnetron sputtering

    Hembram, K. P. / Mohan Rao, G. | British Library Online Contents | 2007

    Nach oben