Effect of Rapid Thermal Annealing on the Electrical and Structural Properties of Se Schottky Contacts to n-Type Si: Fid-Bau Portal

Effect of Rapid Thermal Annealing on the Electrical and Structural Properties of Se Schottky Contacts to n-Type Si

Janardhanam, V. / Kil, Y.-H. / Shim, K.-H. / Reddy, V.R. / Choi, C.-J.

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Titel:

Effect of Rapid Thermal Annealing on the Electrical and Structural Properties of Se Schottky Contacts to n-Type Si

Beteiligte:

Janardhanam, V. (Autor:in) / Kil, Y.-H. (Autor:in) / Shim, K.-H. (Autor:in) / Reddy, V.R. (Autor:in) / Choi, C.-J. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS TRANSACTIONS ; 54 ; 1067-1072

Erscheinungsdatum:

01.01.2013

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

1345-9678

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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