Fachinformationsdienst BAUdigital

Eine Plattform für die Wissenschaft: Bauingenieurwesen, Architektur und Urbanistik

    Rapid thermal annealing of Zr/SiGeC contacts

    Neue Suche nach: Barthula, M.
    Neue Suche nach: Aubry-Fortuna, V.
    Neue Suche nach: Meyer, F.
    Neue Suche nach: Chaix-Pluchery, O.
    Neue Suche nach: Eyal, A.
    Neue Suche nach: Eizenberg, M.
    Neue Suche nach: Warren, P.
    Neue Suche nach: Slaoui, A.
    Neue Suche nach: Singh, R. K.
    Neue Suche nach: Theiler, T.
    Neue Suche nach: Muller, J. C.

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Seitennavigation

    Dokumentinformationen
    Ähnliche Titel

    Exportieren, teilen und zitieren

    Rapid thermal annealing of Zr/SiGeC contacts

    Neue Suche nach: Barthula, M.
    Neue Suche nach: Aubry-Fortuna, V.
    Neue Suche nach: Meyer, F.
    Neue Suche nach: Chaix-Pluchery, O.
    Neue Suche nach: Eyal, A.
    Neue Suche nach: Eizenberg, M.
    Neue Suche nach: Warren, P.
    Neue Suche nach: Slaoui, A.
    Neue Suche nach: Singh, R. K.
    Neue Suche nach: Theiler, T.
    Neue Suche nach: Muller, J. C.

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Rapid thermal annealing of Zr/SiGeC contacts

    Neue Suche nach: Barthula, M.
    Neue Suche nach: Aubry-Fortuna, V.
    Neue Suche nach: Meyer, F.
    Neue Suche nach: Chaix-Pluchery, O.
    Neue Suche nach: Eyal, A.
    Neue Suche nach: Eizenberg, M.
    Neue Suche nach: Warren, P.
    Neue Suche nach: Slaoui, A.
    Neue Suche nach: Singh, R. K.
    Neue Suche nach: Theiler, T.
    Neue Suche nach: Muller, J. C.

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Seitennavigation

    Dokumentinformationen
    Ähnliche Titel

    Exportieren, teilen und zitieren

    Dokumentinformationen
    Titel:

    Rapid thermal annealing of Zr/SiGeC contacts

    Beteiligte:

    Barthula, M. (Autor:in) / Aubry-Fortuna, V. (Autor:in) / Meyer, F. (Autor:in) / Chaix-Pluchery, O. (Autor:in) / Eyal, A. (Autor:in) / Eizenberg, M. (Autor:in) / Warren, P. (Autor:in) / Slaoui, A. / Singh, R. K. / Theiler, T.

    Erschienen in:

    Papers presented at the European Materials Research Society 1998 Meeting. Symposium I: Rapid Thermal Processing ; 263-266

    MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING ; 1

    Erscheinungsdatum:

    01.01.1998

    Format / Umfang:

    4 pages

    ISSN:

    1369-8001

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.38152

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

    Ähnliche Titel

    TSUPREM-4 based modeling of boron and carbon diffusion in SiGeC base layers under rapid thermal annealing conditions

    Sibaja-Hernandez, A. / Wei Xu, M. / Decoutere, S. et al. | British Library Online Contents | 2005

    SiGeC HBTs : The TCAD Challenge Reduced to Practice

    Decoutere, S. / Sibaja-Hernandez, A. | British Library Online Contents | 2005

    Effect of Rapid Thermal Annealing Conditions on Parameters of Ni/21R-SiC Contacts

    Litvinov, V. L. / Demakov, K. D. / Agueev, O. A. et al. | British Library Online Contents | 2002

    Phase formation at rapid thermal annealing of Al/Ti/Ni ohmic contacts on 4H-SiC

    Vassilevski, K. / Zekentes, K. / Tsagaraki, K. et al. | British Library Online Contents | 2001

    A new process to manufacture thin SiGe and SiGeC epitaxial films on silicon by ion implantation and excimer laser annealing

    Boher, P. / Stehle, J. L. / Fogarassy, E. | British Library Online Contents | 1999

    Nach oben