Influence of the Germanium content on the amorphization of silicon-germanium alloys during ion implantation: Fid-Bau Portal

Influence of the Germanium content on the amorphization of silicon-germanium alloys during ion implantation

Belafhaili, A. / Laanab, L. / Cristiano, F. / Cherkashin, N. / Claverie, A.

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Titel:

Influence of the Germanium content on the amorphization of silicon-germanium alloys during ion implantation

Beteiligte:

Belafhaili, A. (Autor:in) / Laanab, L. (Autor:in) / Cristiano, F. (Autor:in) / Cherkashin, N. (Autor:in) / Claverie, A. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING ; 16 ; 1655-1658

Erscheinungsdatum:

01.01.2013

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

1369-8001

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.38152

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