Indium Tin Oxide Films with Low Resistivity at Room Temperature Using DC Magnetron Sputtering with Grid Electrode: Fid-Bau Portal

Indium Tin Oxide Films with Low Resistivity at Room Temperature Using DC Magnetron Sputtering with Grid Electrode

Lee, H.-N. / Hur, J.-Y. / Kim, H.J. / Lee, M.H. / Lee, H.K.

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Titel:

Indium Tin Oxide Films with Low Resistivity at Room Temperature Using DC Magnetron Sputtering with Grid Electrode

Beteiligte:

Lee, H.-N. (Autor:in) / Hur, J.-Y. (Autor:in) / Kim, H.J. (Autor:in) / Lee, M.H. (Autor:in) / Lee, H.K. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS TRANSACTIONS ; 55 ; 605-609

Erscheinungsdatum:

01.01.2014

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

1345-9678

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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