Structure and Epitaxial Behavior of Rutile TiO~2 Thin Films Prepared by DC Magnetron Sputtering and Ex-Situ Annealing: Fid-Bau Portal

Structure and Epitaxial Behavior of Rutile TiO~2 Thin Films Prepared by DC Magnetron Sputtering and Ex-Situ Annealing

Roch, T. / Durina, P. / Truchly, M. / Plecenik, T. / Grancic, B. / Mikula, M. / Haidry, A.A. / Gregor, M. / Satrapinskyy, L. / Kus, P.

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Titel:

Structure and Epitaxial Behavior of Rutile TiO~2 Thin Films Prepared by DC Magnetron Sputtering and Ex-Situ Annealing

Beteiligte:

Roch, T. (Autor:in) / Durina, P. (Autor:in) / Truchly, M. (Autor:in) / Plecenik, T. (Autor:in) / Grancic, B. (Autor:in) / Mikula, M. (Autor:in) / Haidry, A.A. (Autor:in) / Gregor, M. (Autor:in) / Satrapinskyy, L. (Autor:in) / Kus, P. (Autor:in)

Erschienen in:

KEY ENGINEERING MATERIALS ; 605 ; 487-490

Erscheinungsdatum:

01.01.2014

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

1013-9826

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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