Eine Plattform für die Wissenschaft: Bauingenieurwesen, Architektur und Urbanistik
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Research of Micro-Inertial Device High-Aspect-Ratio Etching Parameters
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Shi, G.X. (Autor:in) / Jia, S.X. (Autor:in) / Jiang, G.Q. (Autor:in) / Zhu, J. (Autor:in)
KEY ENGINEERING MATERIALS ; 609/610 ; 706-709
01.01.2014
4 pages
Aufsatz (Zeitschrift)
Englisch
DDC:
620.11
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