Effect of annealing temperature on properties of ZnO:Al thin films prepared by pulsed DC reactive magnetron sputtering: Fid-Bau Portal

Effect of annealing temperature on properties of ZnO:Al thin films prepared by pulsed DC reactive magnetron sputtering

Liu, C. / Xu, Z. / Zhang, Y. / Fu, J. / Zang, S. / Zuo, Y.

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Titel:

Effect of annealing temperature on properties of ZnO:Al thin films prepared by pulsed DC reactive magnetron sputtering

Beteiligte:

Liu, C. (Autor:in) / Xu, Z. (Autor:in) / Zhang, Y. (Autor:in) / Fu, J. (Autor:in) / Zang, S. (Autor:in) / Zuo, Y. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS LETTERS ; 139 ; 279-283

Erscheinungsdatum:

01.01.2015

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0167-577X

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.1105 / 530

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