Double nitridation of crystalline ZrO2/Al2O3 buffer gate stack with high capacitance, low leakage and improved thermal stability: Fid-Bau Portal

Double nitridation of crystalline ZrO2/Al2O3 buffer gate stack with high capacitance, low leakage and improved thermal stability

Huang, J. J. / Tsai, Y. J. / Tsai, M. C. / Lee, M. H. / Chen, M. J.

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Titel:

Double nitridation of crystalline ZrO2/Al2O3 buffer gate stack with high capacitance, low leakage and improved thermal stability

Beteiligte:

Huang, J. J. (Autor:in) / Tsai, Y. J. (Autor:in) / Tsai, M. C. (Autor:in) / Lee, M. H. (Autor:in) / Chen, M. J. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 330 ; 221-227

Erscheinungsdatum:

01.01.2015

Format / Umfang:

7 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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