Low-temperature plasma-enhanced chemical vapour deposition of transfer-free graphene thin films: Fid-Bau Portal

Low-temperature plasma-enhanced chemical vapour deposition of transfer-free graphene thin films

Othman, M. / Ritikos, R. / Muhammad Hafiz, S. / Khanis, N. H. / Abdul Rashid, N. M. / Abdul Rahman, S.

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Titel:

Low-temperature plasma-enhanced chemical vapour deposition of transfer-free graphene thin films

Beteiligte:

Othman, M. (Autor:in) / Ritikos, R. (Autor:in) / Muhammad Hafiz, S. (Autor:in) / Khanis, N. H. (Autor:in) / Abdul Rashid, N. M. (Autor:in) / Abdul Rahman, S. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS LETTERS ; 158 ; 436-438

Erscheinungsdatum:

01.01.2015

Format / Umfang:

3 pages

ISSN:

0167-577X

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.1105 / 530

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